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플럭스의 구성이 소개됩니다.

2024-04-25

플럭스(flux): 용접 공정을 돕고 촉진하며 산화를 방지하는 화학 물질입니다. 플럭스는 고체, 액체, 기체로 나눌 수 있습니다. 주로 "보조 열전도", "산화물 제거", "용접재 표면 장력 감소", "용접재 표면의 오일 제거, 용접 면적 증가", "재산화 방지" 등이 있습니다. 이러한 측면에서 더 중요한 역할은 두 가지입니다: "산화물 제거"와 "용접 재료의 표면 장력 감소".


재료 소개


플럭스는 일반적으로 로진을 주성분으로 혼합한 혼합물로, 용접 공정의 원활한 진행을 보장하는 보조재료입니다. 용접은 전자 조립의 주요 기술 프로세스입니다. 플럭스는 용접에 사용되는 보조재료입니다. 플럭스의 주요 기능은 납땜 및 용접된 모재 표면의 산화물을 제거하여 금속 표면이 필요한 청결을 달성할 수 있도록 하는 것입니다. 용접 시 표면의 재산화를 방지하고, 납땜의 표면장력을 감소시켜 용접 성능을 향상시킵니다. 플럭스의 품질은 전자제품의 품질에 직접적인 영향을 미칩니다.


성분의 구성


최근 수십 년 동안 전자 제품 생산의 납땜 공정에서는 로진 수지가 일반적으로 사용되며 주로 로진, 수지, 활성제 함유 할로겐화물, 첨가제 및 유기 용제로 구성됩니다. 이러한 종류의 플럭스는 용접성이 좋고 비용이 저렴하지만 용접 후 잔사가 많이 발생합니다. 잔류물에는 할로겐 이온이 포함되어 있어 점차 전기 절연 성능 저하, 단락 및 기타 문제를 일으킬 수 있습니다. 이러한 문제를 해결하기 위해서는 전자인쇄기판에 남아있는 로진수지계 플럭스의 잔여물을 깨끗하게 제거하는 것이 필요하다. 이는 생산 비용을 증가시킬 뿐만 아니라 로진 수지 시스템의 잔류 플럭스에 대한 세척제가 주로 불소 화합물입니다. 이 화합물은 대기 오존층을 파괴하는 물질이며 금지 및 제거 물질 중 하나입니다. 아직도 많은 기업에서 사용하고 있는 공정은 앞서 언급한 로진트리 핑거 플럭스 솔더를 사용한 후 세척제로 세척하는 공정으로 효율성이 낮고 비용이 많이 듭니다.


무세척 플럭스의 주요 원료는 유기용제, 로진수지 및 그 유도체, 합성수지계면활성제, 유기산활성제, 부식방지제, 보조용매, 피막형성제 등이다. 간단히 말해서, 다양한 고체 성분이 다양한 액체에 용해되어 균일하고 투명한 혼합 용액을 형성하는데, 이는 다양한 성분의 비율이 다르고 역할도 다릅니다.


유기 용매: 일반적으로 사용되는 케톤, 알코올 및 에스테르의 하나 또는 여러 혼합물은 에탄올, 프로판올 및 부탄올입니다. 아세톤, 톨루엔 이소부틸 케톤; 에틸 아세테이트, 부틸 아세테이트 등 액체 성분으로서 주요 기능은 플럭스의 고체 성분을 용해시켜 균일한 용액을 형성하는 것입니다. 이는 용접 부품이 적당량으로 균일하게 코팅되는 데 편리합니다. 플럭스 성분을 제거할 수 있으며 금속 표면의 가벼운 먼지와 기름도 제거할 수 있습니다.


천연수지 및 그 유도체 또는 합성수지


계면활성제: 할로겐화 계면활성제는 활성이 강하고 용접보조능력이 높지만 할로겐 이온은 세척이 어렵고 이온잔류물이 많기 때문에 할로겐원소(주로 염화물)는 부식이 강하여 미세정 플럭스의 원료로 사용하기에는 적합하지 않으며, 할로겐이 없는 계면활성제는 활성이 약간 약하지만 이온 잔류물이 적습니다. 계면활성제는 주로 지방산 그룹이나 방향족 그룹의 비이온성 계면활성제입니다. 주요 기능은 땜납과 납 발 금속이 접촉할 때 발생하는 표면 장력을 감소시키고, 표면 습윤성을 강화하며, 유기산 활성화제의 투과성을 강화하고, 발포제 역할도 하는 것입니다.


유기산 활성화제: 숙신산, 글루타르산, 이타콘산, o-히드록시벤조산, 콰디프산, 헵탄산, 말산, 숙신산 등과 같은 유기산 이염기산 또는 방향족산 중 하나 이상으로 구성됩니다. 주요 기능은 리드 풋의 산화물과 용융 솔더 표면의 산화물을 제거하는 것이며 플럭스의 핵심 구성 요소 중 하나입니다.


부식방지제 : 고온 분해 후 수지, 활성화제 등 고체성분의 잔류물질을 감소시킵니다.


공용매: 활성화제와 같은 고체 성분이 용액에서 탈색되는 경향을 방지하고 불량한 활성화제가 고르지 않게 분포되는 것을 방지합니다.


필름 형성제: 리드 풋 솔더링 과정에서 코팅된 플럭스가 침전 및 결정화되어 균일한 필름을 형성합니다. 고온 분해 후 잔사물은 필름 형성제의 존재로 인해 빠른 경화, 경화 및 점도 감소가 가능합니다.

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